MOCVD装置世界市場レポート：主要企業、ランキング、成長予測2026-2032

MOCVD装置（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition装置）は、金属有機化合物を用いた化学気相成長法によって半導体薄膜を形成するための高度な製造装置です。MOCVD装置は、高精度な温度制御、ガスフロー制御、圧力制御を可能とし、GaN、InP、GaAsなどの化合物半導体の高品質エピタキシャル成長に広く利用されます。また、LED、レーザーデバイス、パワーエレクトロニクス用の半導体材料製造において不可欠な装置として位置付けられています。さらに、MOCVD装置はウェハーサイズやスループットの拡張が可能であり、産業用および研究開発用の双方で重要な役割を果たしています。

 

 

QYResearchが発表した新たな市場調査レポート「MOCVD装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2026～2032」 によると、世界のMOCVD装置市場規模は2024年の約687百万米ドルから2025年の749百万米ドルへと順調に拡大すると見込まれ、予測期間中は年平均成長率（CAGR）7.4%で成長し、2031年には1151百万米ドルに達すると予測されています。

 

 

上記データはQYResearchのレポートに基づいています： MOCVD装置―グローバル市場シェアとランキング、全体の売上と需要予測、2025～2031（2025年発行）。

 

スマートフォン、電気自動車、5G通信機器などにおける化合物半導体の需要増加は、MOCVD装置市場の拡大を促しています。MOCVD装置は高品質なエピタキシャル層を生成できるため、最先端半導体デバイスの製造に不可欠です。

次世代照明やディスプレイ用途のLED市場の成長は、MOCVD装置の需要を直接押し上げています。特に青色・緑色・赤色LEDの製造には高精度のMOCVD装置が必要です。

GaNやSiCを用いた高効率電力半導体の採用拡大により、MOCVD装置による高品質材料の成長需要が増加しています。これにより、自動車や再生可能エネルギー分野での応用が拡大しています。

次世代光エレクトロニクスや量子デバイスの開発には、MOCVD装置が不可欠であり、研究機関や大学での導入が進んでいます。これにより装置市場全体の成長が支えられています。

MOCVD装置は温度・圧力・ガス流量の精密制御が可能であり、微細構造や多層構造の成長に対応しています。この技術的優位性が市場拡大の大きな要因となっています。

GaNやSiCなどのワイドバンドギャップ半導体は、高効率LEDやパワー半導体の材料として需要が急増しており、MOCVD装置の成長機会を拡大しています。

300mmウェハー対応や多チャンバー型のMOCVD装置の開発により、スループット向上とコスト削減が可能となり、量産市場での競争力が高まります。

量子コンピュータや光通信デバイス向けの高品質半導体材料成長には、MOCVD装置の高精度技術が不可欠であり、新規市場開拓のチャンスとなります。

EVやHEV向けの高効率パワー半導体生産の需要増加は、MOCVD装置の長期的な成長機会を提供しています。

AIや自動制御技術を用いたプロセス最適化により、MOCVD装置の生産効率とエネルギー効率の向上が期待されており、持続可能な市場成長に寄与します。

MOCVD装置は初期投資やメンテナンスコストが非常に高く、中小企業や新規参入者にとって導入障壁となっています。

高精度の温度・ガス流量・圧力制御が必要であり、操作やメンテナンスが複雑なため、熟練技術者の確保が課題です。

金属有機化合物や希少ガスの価格変動は、MOCVD装置運用コストに直接影響を与え、市場の安定性を低下させます。

MOCVD装置市場は競合他社との技術競争が激しく、特許問題や製品差別化が課題となります。

MOCVD装置に代わる新しい成膜技術（例：HVPE、MBEなど）が開発されることで、従来型MOCVD装置の市場シェアに影響を与える可能性があります。

 

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https://www.qyresearch.co.jp/reports/1535343/mocvd-equipment

 

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