原子層堆積装置(ALD)の最新市場調査2026:産業構造、価格推移、市場リスクの多角分析
原子層堆積装置(ALD)世界総市場規模
原子層堆積装置(ALD)は、熱式またはエネルギー増強型 ALD に用いられる多機能な研究用堆積ツールである。原子層堆積(ALD)は、気相化学プロセスの順次的な適用に基づく薄膜堆積技術であり、化学気相堆積のサブカテゴリーに属する。ほとんどの ALD 反応は、「前駆体」(別名「反応物」)と呼ばれる二種類の化学物質を使用する。これらの前駆体は、順次的かつ自己限定的な方式で材料表面と一つずつ反応する。薄膜は、異なる前駆体への反復的な暴露を通じて緩やかに堆積する。ALD は半導体デバイス製造の鍵となるプロセスであり、ナノ材料合成のツールセットの一部でもある。
図.原子層堆積装置(ALD)の製品画像
業界発展の特徴:高精度・高成長を支える技術革新
原子層堆積装置の市場は技術革新によって特徴付けられる。ナノ構造の微細化が進む半導体産業において、ALDは膜厚制御、材料多様性、低欠陥形成の面で他技術を凌駕する。その結果、製造プロセスの高度化やエネルギー効率化への貢献が大きく、装置の高精度化・高速化・省スペース化が急務となっている。加えて、ディスプレイやメモリ、パワーデバイス市場の拡大がALD装置の需要を押し上げる要因である。産業チェーン全体では、半導体製造装置メーカー、材料供給業者、システムインテグレーターが連携するエコシステムが形成され、グローバル規模での競争と協業が進むことで、市場は技術駆動型かつ高成長な特徴を持つ産業として確立されている。
図. 原子層堆積装置(ALD)世界総市場規模
上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
市場規模の現状:急拡大するグローバル市場
YHResearchの最新レポートグローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2026によると、2024年の2738百万米ドルから2031年には4380百万米ドルに成長し、2025年から2031年の間にCAGRは7.0%になると予測されている。
市場成長は半導体微細化やメモリ、ディスプレイ産業の高度化に直結しており、先端ロジック・NANDフラッシュ・OLEDパネル向け装置の需要が牽引する。地域別では、米国、日本、韓国、中国、中国台湾が主要需要地域であり、各国の先端半導体投資政策や企業の製造能力拡張計画が市場成長の原動力となる。特に中国と中国台湾のメモリおよびディスプレイ生産増加が世界市場の拡大に大きく寄与すると見られる。
図. 世界の原子層堆積装置(ALD)市場におけるトップ26企業のランキングと市場シェア(2024年の調査データに基づく;最新のデータは、当社の最新調査データに基づいている)
上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
主要製造業者:市場をリードするトップ企業群
原子層堆積装置のグローバル市場はトップ企業が支配しており、ASM International、Tokyo Electron、Lam Research、Ideal Deposition、Applied Materials、NAURA、Jusung Engineering、IDEAL SEMICONDUCTOR EQUIPMENT (SHANGHAI) CO., LTD、Qingdao Sifang SRI Intellectual Technology Co., Ltd.、Eugenusなどが主要プレイヤーである。2024年にはこれら上位10社が売上ベースで約81.0%の市場シェアを占め、競争は高度に集中している。各社は高精度ALD装置の開発や生産効率向上、材料多様性への対応を進めることで差別化を図っており、技術優位性と量産能力の両立が競争力の鍵となる。特にASM InternationalやTokyo Electronは、先端ロジック向け装置分野で世界市場を牽引し、Lam Researchはメモリ向けALDソリューションで高シェアを維持する。
今後の展望:微細化と多用途化が成長を牽引
今後のALD装置市場は、半導体微細化の進展に加え、次世代ディスプレイやエネルギー・センサー分野での用途拡大によってさらなる成長が見込まれる。特に5nm以下の先端ロジックプロセス向けの装置需要が増加し、従来より高速化・省スペース化した装置の開発が重要課題となる。また、酸化物や窒化物、複合材料など多様な材料に対応するALD技術が求められ、研究開発投資の増加が市場拡大の原動力となる。地域別では中国・台湾・韓国の設備投資が依然として大きく、北米・欧州ではハイエンドロジック向けALD装置の需要が拡大する見込みである。技術革新と用途多様化により、ALD装置は今後も高成長を維持し、半導体および新興産業の製造基盤を支える重要装置であり続ける。
最新動向:企業と業界が進める革新と投資
2025年、Applied Materialsは次世代メモリ向けALD装置の量産ラインを米国テキサス州オースティンに新設し、生産能力を従来比1.5倍に拡張すると発表した。これは微細化進展に対応する戦略的投資である。
2024年、Tokyo Electronは半導体製造向けALD装置の材料対応力を強化するため、フィンランドの材料解析企業との共同開発プロジェクトを開始。新素材対応の装置開発により、半導体微細加工の要求に応えることを狙う。
2023年、Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)はグローバルALD市場の需要予測を改訂し、2030年までの年間成長率を従来予測より0.8ポイント上方修正。アジア太平洋地域での半導体投資増加が主因であり、業界全体で装置需要の高まりが示された。
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https://www.yhresearch.co.jp/reports/1258608/atomic-layer-deposition-equipment--ald
会社概要
YH Research(YHリサーチ)は、グローバルビジネスをサポートする市場調査と情報提供の企業です。業界調査レポート、カスタムレポート、IPOアドバイザリーサービス、ビジネスプラン作成など、企業の成長と発展を支援するサービスを提供しています。 世界5カ国にオフィスを構え、100カ国以上の企業に正確で有益なデータを提供し、業界動向や競合分析、消費者行動分析などを通じて、企業が市場の変化に迅速に対応できるようサポートしています。
【本件に関するお問い合わせ先】
YH Research株式会社
URL:https://www.yhresearch.co.jp
住所:東京都中央区勝どき五丁目12番4-1203号
TEL:050-5840-2692(日本);0081-5058402692(グローバル)
マーケティング担当:info@yhresearch.com
原子層堆積装置(ALD)は、熱式またはエネルギー増強型 ALD に用いられる多機能な研究用堆積ツールである。原子層堆積(ALD)は、気相化学プロセスの順次的な適用に基づく薄膜堆積技術であり、化学気相堆積のサブカテゴリーに属する。ほとんどの ALD 反応は、「前駆体」(別名「反応物」)と呼ばれる二種類の化学物質を使用する。これらの前駆体は、順次的かつ自己限定的な方式で材料表面と一つずつ反応する。薄膜は、異なる前駆体への反復的な暴露を通じて緩やかに堆積する。ALD は半導体デバイス製造の鍵となるプロセスであり、ナノ材料合成のツールセットの一部でもある。
図.原子層堆積装置(ALD)の製品画像
業界発展の特徴:高精度・高成長を支える技術革新
原子層堆積装置の市場は技術革新によって特徴付けられる。ナノ構造の微細化が進む半導体産業において、ALDは膜厚制御、材料多様性、低欠陥形成の面で他技術を凌駕する。その結果、製造プロセスの高度化やエネルギー効率化への貢献が大きく、装置の高精度化・高速化・省スペース化が急務となっている。加えて、ディスプレイやメモリ、パワーデバイス市場の拡大がALD装置の需要を押し上げる要因である。産業チェーン全体では、半導体製造装置メーカー、材料供給業者、システムインテグレーターが連携するエコシステムが形成され、グローバル規模での競争と協業が進むことで、市場は技術駆動型かつ高成長な特徴を持つ産業として確立されている。
図. 原子層堆積装置(ALD)世界総市場規模
上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
市場規模の現状:急拡大するグローバル市場
YHResearchの最新レポートグローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2026によると、2024年の2738百万米ドルから2031年には4380百万米ドルに成長し、2025年から2031年の間にCAGRは7.0%になると予測されている。
市場成長は半導体微細化やメモリ、ディスプレイ産業の高度化に直結しており、先端ロジック・NANDフラッシュ・OLEDパネル向け装置の需要が牽引する。地域別では、米国、日本、韓国、中国、中国台湾が主要需要地域であり、各国の先端半導体投資政策や企業の製造能力拡張計画が市場成長の原動力となる。特に中国と中国台湾のメモリおよびディスプレイ生産増加が世界市場の拡大に大きく寄与すると見られる。
図. 世界の原子層堆積装置(ALD)市場におけるトップ26企業のランキングと市場シェア(2024年の調査データに基づく;最新のデータは、当社の最新調査データに基づいている)
上記の図表/データは、YHResearchの最新レポート「グローバル原子層堆積装置(ALD)のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2025」から引用されている。
主要製造業者:市場をリードするトップ企業群
原子層堆積装置のグローバル市場はトップ企業が支配しており、ASM International、Tokyo Electron、Lam Research、Ideal Deposition、Applied Materials、NAURA、Jusung Engineering、IDEAL SEMICONDUCTOR EQUIPMENT (SHANGHAI) CO., LTD、Qingdao Sifang SRI Intellectual Technology Co., Ltd.、Eugenusなどが主要プレイヤーである。2024年にはこれら上位10社が売上ベースで約81.0%の市場シェアを占め、競争は高度に集中している。各社は高精度ALD装置の開発や生産効率向上、材料多様性への対応を進めることで差別化を図っており、技術優位性と量産能力の両立が競争力の鍵となる。特にASM InternationalやTokyo Electronは、先端ロジック向け装置分野で世界市場を牽引し、Lam Researchはメモリ向けALDソリューションで高シェアを維持する。
今後の展望:微細化と多用途化が成長を牽引
今後のALD装置市場は、半導体微細化の進展に加え、次世代ディスプレイやエネルギー・センサー分野での用途拡大によってさらなる成長が見込まれる。特に5nm以下の先端ロジックプロセス向けの装置需要が増加し、従来より高速化・省スペース化した装置の開発が重要課題となる。また、酸化物や窒化物、複合材料など多様な材料に対応するALD技術が求められ、研究開発投資の増加が市場拡大の原動力となる。地域別では中国・台湾・韓国の設備投資が依然として大きく、北米・欧州ではハイエンドロジック向けALD装置の需要が拡大する見込みである。技術革新と用途多様化により、ALD装置は今後も高成長を維持し、半導体および新興産業の製造基盤を支える重要装置であり続ける。
最新動向:企業と業界が進める革新と投資
2025年、Applied Materialsは次世代メモリ向けALD装置の量産ラインを米国テキサス州オースティンに新設し、生産能力を従来比1.5倍に拡張すると発表した。これは微細化進展に対応する戦略的投資である。
2024年、Tokyo Electronは半導体製造向けALD装置の材料対応力を強化するため、フィンランドの材料解析企業との共同開発プロジェクトを開始。新素材対応の装置開発により、半導体微細加工の要求に応えることを狙う。
2023年、Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)はグローバルALD市場の需要予測を改訂し、2030年までの年間成長率を従来予測より0.8ポイント上方修正。アジア太平洋地域での半導体投資増加が主因であり、業界全体で装置需要の高まりが示された。
◇レポートの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら
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YH Research(YHリサーチ)は、グローバルビジネスをサポートする市場調査と情報提供の企業です。業界調査レポート、カスタムレポート、IPOアドバイザリーサービス、ビジネスプラン作成など、企業の成長と発展を支援するサービスを提供しています。 世界5カ国にオフィスを構え、100カ国以上の企業に正確で有益なデータを提供し、業界動向や競合分析、消費者行動分析などを通じて、企業が市場の変化に迅速に対応できるようサポートしています。
【本件に関するお問い合わせ先】
YH Research株式会社
URL:https://www.yhresearch.co.jp
住所:東京都中央区勝どき五丁目12番4-1203号
TEL:050-5840-2692(日本);0081-5058402692(グローバル)
マーケティング担当:info@yhresearch.com




